Molecular Imprints erhält Auftrag über mehrere moderne Litographiegeräte für großvolumige Halbleiterherstellung
Texas (ots/PRNewswire)
Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) von Molecular Imprints auf dem richtigen Weg für Produktion von Halbleiterspeichern ab 2014
AUSTIN, Texas, 24. September 24, 2012 /PRNewswire/ - Molecular Imprints, Inc. (MII), Markt- und Technologieführer für Nanostrukturierungs [http://www.molecularimprints.com/]systeme und -lösungen gab heute den Erhalt eines Auftrags über mehrere Imprint-Module [http://www.molecularimprints.com/] zur Integration in die Steppersysteme eines Herstellers für Halbleiteranlagen bekannt. Diese Module umfassen die neueste proprietäre Jet and Flash? Imprint Lithography [http://www.molecularimprints.com/] (J-FIL?) Technologie von MII mit der erforderlichen Leistung für die großvolumige Herstellung moderner Halbleiterspeichergeräte.
(Logo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO [http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO] )
?Dieser Auftrag über mehrere Module ist ein Vertrauensbeweis unserer Kunden hinsichtlich der baldigen Produktionsreife von J-FIL", so Mark Melliar-Smith, Vorsitzender und CEO von Molecular Imprints. ?Unsere Anlagen- und Handelspartner sowie internen Teams konnten ihre Entwicklungsaktivitäten erfolgreich koordinieren und im letzten Jahr enorme Fortschritte erzielen, insbesondere in den Bereichen Mängelbehebung und Gesamtbetriebskosten [http://www.molecularimprints.com/] (CoO). Wir freuen uns jetzt auf die nächste Phase der Kommerzialisierung unserer J-FIL-Technologie und auf die Entwicklung eines Strategieplans für Halbleiterspeichergeräte in den nächsten Jahren."
Die J-FIL?-Technologie weist eine 24-nm-Strukturierung mit herausragender Kantenrauigkeit (<2 nm LER, 3 Sigma) und Critical Dimension Uniformity (1,2 nm CDU, 3 Sigma) mit Erweiterbarkeit auf 10 nm anhand eines einfachen einzelnen Strukturierverfahrensschritts auf. Die inherenten Betriebskostenvorteile von J-FIL, die durch die Vermeidung von EUV [http://www.molecularimprints.com/]-Lichtquellen mit eingeschränkter Kapazität, komplexen optischen Linsen und Spiegeln sowie Imaging-Problemen durch den Einsatz ultrasensibler Fotolacke erzielt werden, positionieren das Produkt optimal für die Herstellung von Halbleiterspeichern.
Informationen zu Molecular Imprints, Inc. Molecular Imprints, Inc. (MII) ist Technologieführer für hochauflösende Nanostrukturierungssysteme und -lösungen mit niedrigen Gesamtbetriebskosten. MII nutzt seine innovative Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) Technologie, um sich als weltweiter Markt- und Technologieführer für großvolumige Strukturierungslösungen für Halbleiterspeicher in aufstrebenden Märkten wie Displays, erneuerbare Energien, Biotechnologie und anderen Branchen zu etablieren. MII beliefert die Nanostrukturierung mit umfassenden Imprint-Litographielösungen, die bezahlbar, kompatibel und auf Nanometer-Dimensionen unter 10 erweiterbar sind. Weitere Informationen und Neuigkeiten auf Twitter finden Sie unter www.molecularimprints.com [http://www.molecularimprints.com/].
Pressekontakt des Unternehmens Paul Hofemann Molecular Imprints, Inc. +1-512-225-8441 phofemann@molecularimprints.com[mailto:phofema nn@molecularimprints.com]
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